Meier, Johann Emil: Herstellung und Untersuchung passivierender Grenzschichten in amorphen Silizium-Schottky-Solarzellen

/ von Johann Emil Meier. - 1. Aufl. - Konstanz : Hartung-Gorre, 1992. - 130 S. : Ill., graph. Darst.; 21 cm - (Konstanzer Dissertationen; Bd. 343)

ISBN 978-3-89191-548-6 / 3-89191-548-9 kart. : DM 68.00

Quelle: DNB

Karlstetter, Günther: Leitfähigkeit und Thermokraft am Metall-Isolator-Übergang von amorphem Ge1-xAUx

/ Günther Karlstetter. - Thun : Deutsch, 1995. - 98 S. : Ill., graph. Darst.; 21 cm - (Reihe Physik; Bd. 45)

ISBN 978-3-8171-1479-5 / 3-8171-1479-6 kart. : DM 26.00, ca. sfr 26.00, ca. S 193.00

Quelle: DNB

Flückiger, Roger Sylvain: Microcrystalline silicon thin films deposited by VHF plasmas for solar cell applications

/ Roger Sylvain Flückiger. - 1. Aufl. - Konstanz : Hartung-Gorre, 1995. - 96 S.; 21 cm

ISBN 978-3-89191-965-1 / 3-89191-965-4 kart. : DM 128.00, sfr 128.00, S 916.00

Quelle: DNB

Optical nonlinearities in chalcogenide glasses and their applications

: with 18 tables / A. Zakery .... - Berlin : Springer, 2007. - Online-Ressource - (Springer series in optical sciences; 135)

ISBN 978-3-540-71068-4

Lizenzpflichtig

Quelle: DNB

Könenkamp, Rolf: Photoelectric properties and applications of low mobility semiconductors

/ Rolf Könenkamp. - Berlin : Springer, 2000. - VIII, 100 S. : Ill., graph. Darst.; 25 cm - (Springer tracts in modern physics; Vol. 167)

ISBN 978-3-540-66699-8 / 3-540-66699-0 Pp. : DM 119.00

Literaturverz. S. 87 - 95

Quelle: DNB

Photoelectric properties and applications of low mobility semiconductors

/ by Rolf Könenkamp. - Berlin : Springer, 2001. - Online-Ressource - (Springer tracts in modern physics; Vol. 167)

ISBN 978-3-540-47030-4

Lizenzpflichtig

Quelle: DNB

Photo-induced metastability in amorphous semiconductors

/ Alexander V. Kolobov. With a foreword of Kazunobu Tanaka. - Weinheim : Wiley-VCH, 2003. - XXIV, 412 S. : Ill., graph. Darst.; 25 cm

ISBN 978-3-527-40370-7 / 3-527-40370-1 Pp. : EUR 139.00

Literaturangaben

Quelle: DNB

Kroll, Ulrich Justus: VHF-Plasmaabscheidung von amorphem Silizium

: Einfluss der Anregungsfrequenz, der Reaktorgestaltung sowie Schichteigenschaften / von Ulrich Justus Kroll. Université de Neuchâtel, Institut de Microtechnique. - 1. Aufl. - Konstanz : Hartung-Gorre, 1995. - 89 S.; 21 cm

ISBN 978-3-89191-905-7 / 3-89191-905-0 kart. : DM 88.00, sfr 88.00, S 636.00

Quelle: DNB