Jäger-Waldau, Gerold: Analyse physikalischer Eigenschaften trockenätzinduzierter Defekte in Silizium mit Rasterelektronen- und Rasterkraftmikroskopie
/ vorgelegt von Gerold Jäger-Waldau. - 1. Aufl. - Konstanz : Hartung-Gorre, 1994. - 130 S. : Ill., graph. Darst.; 21 cm - (Konstanzer Dissertationen; Bd. 430)
ISBN 978-3-89191-804-3 / 3-89191-804-6 kart. : DM 78.00, sfr 81.00, S 566.00
Quelle: DNB
Lill, Thorsten: Atomic layer processing
: semiconductor dry etching technology / Thorsten Lill. - Weinheim : Wiley-VCH, 2021. - XIV, 284 Seiten : Illustrationen; 25 cm, 584 g
ISBN 978-3-527-34668-4 / 3-527-34668-6 Broschur : circa EUR 109.00 (DE) (freier Preis)
Quelle: DNB
Franz, Gerhard: Oberflächentechnologie mit Niederdruckplasmen
: Beschichten und Strukturieren in der Mikrotechnik / Gerhard Franz. - 2., völlig neubearb. Aufl. - Berlin : Springer, 1994. - X, 434 S. : Ill., graph. Darst.; 25 cm
ISBN 978-3-540-57360-9 / 3-540-57360-7 Pp. : DM 148.00
Literaturverz. S. 397 - 416
Quelle: DNB
